專利名稱：一種用于超聲腫瘤治療機(jī)的兩次聚焦裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種超聲波聚焦裝置，尤其是指一種用于高強(qiáng)聚焦超聲腫瘤治療機(jī)的兩次聚焦裝置。
背景技術(shù)：
目前，應(yīng)用于高強(qiáng)聚焦超聲腫瘤治療機(jī)的聚焦裝置，普遍采用將平面壓電晶體安裝在內(nèi)徑為R的球冠上的方法，利用球冠的曲率半徑將超聲波發(fā)射的超聲能量聚集于一點(diǎn)，如圖1所示，平面壓電晶體2從球冠1上發(fā)出超聲波，以圓桶狀向前傳輸，沒(méi)有匯聚，在交點(diǎn)處會(huì)有多個(gè)超聲波束相加，所形成的焦域比較大，旁瓣也大，不利于對(duì)病灶的治療?；蛘卟捎闷矫鎵弘娋w產(chǎn)生平面超聲波，再通過(guò)透鏡將超聲波發(fā)射的超聲能量聚焦到一點(diǎn)。這兩種結(jié)構(gòu)雖然考慮了超聲波近場(chǎng)和遠(yuǎn)場(chǎng)的分布不同，但仍不可避免地帶來(lái)諸如焦域大、損耗大、效率低、工藝復(fù)雜等缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是，提供一種聚焦好、旁瓣小、損耗小、效率高、工藝簡(jiǎn)單和制作容易的超聲腫瘤治療機(jī)的兩次聚焦裝置為解決上述技術(shù)問(wèn)題所采取的技術(shù)方案是一種用于超聲腫瘤治療機(jī)的兩次聚焦裝置，包括內(nèi)徑為R的球冠1、壓電晶體2、高頻電源3和晶體外殼4，壓電晶體2的供電端通過(guò)導(dǎo)線與高頻電源3相接，球冠1的球面上均勻開(kāi)設(shè)有多個(gè)安裝孔，壓電晶體2為弧形并固定在晶體外殼4內(nèi)，多個(gè)壓電晶體2通過(guò)晶體外殼4固接在球冠1的安裝孔內(nèi)。
壓電晶體2的曲率半徑與球冠1的曲率半徑相同。
與現(xiàn)有技術(shù)相比本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是由于壓電晶體的曲率半徑與球冠的曲率半徑相同，超聲波在向前傳輸?shù)倪^(guò)程中會(huì)產(chǎn)生兩次聚焦，所形成的焦域和旁瓣很小，能量大且能量損耗小，將它安裝于超聲腫瘤治療機(jī)用于對(duì)病灶進(jìn)行治療，可以起到更好的醫(yī)治效果

以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)地描述。
圖1為現(xiàn)有采用平面壓電晶體的一次聚焦裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型采用曲面壓電晶體的兩次聚焦裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖2所示，一種用于超聲腫瘤治療機(jī)的兩次聚焦裝置，包括內(nèi)徑為35cm的球冠1、壓電晶體2、高頻電源3和晶體外殼4，球冠1的球面上對(duì)稱開(kāi)設(shè)有35個(gè)安裝孔，壓電晶體2為弧形，其曲率半徑與球冠1的曲率半徑相同，35個(gè)壓電晶體2先分別固定在晶體外殼4內(nèi)，再固接于球冠1的安裝孔內(nèi)，每個(gè)壓電晶體2的供電端分別通過(guò)導(dǎo)線與35個(gè)可在30-100W之間調(diào)整功率的高頻電源3相接。因?yàn)閴弘娋w2是一個(gè)曲面，所以每個(gè)壓電晶體發(fā)出的超聲波，在向前傳輸?shù)倪^(guò)程中已經(jīng)匯聚，在焦點(diǎn)O處形成兩次聚焦，其焦域小，旁瓣也小。將它安裝于超聲腫瘤治療機(jī)用于對(duì)病灶進(jìn)行治療，可以起到準(zhǔn)確治療病灶，而不損傷病灶其它組織的醫(yī)治效果。
權(quán)利要求1.一種用于超聲腫瘤治療機(jī)的兩次聚焦裝置，包括內(nèi)徑為R的球冠(1)、壓電晶體(2)和高頻電源(3)，壓電晶體(2)的供電端通過(guò)導(dǎo)線與高頻電源(3)相接，其特征在于，還包括晶體外殼(4)，球冠(1) 的球面上均勻開(kāi)設(shè)有多個(gè)安裝孔，壓電晶體(2)為弧形并固定在晶體外殼(4)內(nèi)，多個(gè)壓電晶體(2)通過(guò)晶體外殼(4)固接在球冠(1)的安裝孔內(nèi)。
2.據(jù)權(quán)利要求1所述的用于超聲腫瘤治療機(jī)的兩次聚焦裝置，其特征在于，所述的壓電晶體(2)的曲率半徑與球冠(1)的曲率半徑相同。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于超聲腫瘤治療機(jī)的兩次聚焦裝置，包括曲率半徑相同的球冠和壓電晶體，多個(gè)壓電晶體通過(guò)其外殼固定在球冠的內(nèi)壁，超聲波經(jīng)過(guò)球冠和壓電晶體的兩次聚焦，在焦點(diǎn)處能量高度集中，與其它方法相比，具有能量大、焦域小、旁瓣小和損耗小的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)A61N7/00GK2587441SQ0228950
公開(kāi)日2003年11月26日 申請(qǐng)日期2002年11月21日 優(yōu)先權(quán)日2002年11月21日
發(fā)明者任愛(ài)卿 申請(qǐng)人:北京仁德盛科技有限責(zé)任公司